JPH0342035Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0342035Y2 JPH0342035Y2 JP1984027157U JP2715784U JPH0342035Y2 JP H0342035 Y2 JPH0342035 Y2 JP H0342035Y2 JP 1984027157 U JP1984027157 U JP 1984027157U JP 2715784 U JP2715784 U JP 2715784U JP H0342035 Y2 JPH0342035 Y2 JP H0342035Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shield member
- target
- substrate
- target surface
- erosion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2715784U JPS60140761U (ja) | 1984-02-29 | 1984-02-29 | マグネトロンスパツタリング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2715784U JPS60140761U (ja) | 1984-02-29 | 1984-02-29 | マグネトロンスパツタリング装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60140761U JPS60140761U (ja) | 1985-09-18 |
JPH0342035Y2 true JPH0342035Y2 (en]) | 1991-09-03 |
Family
ID=30523839
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2715784U Granted JPS60140761U (ja) | 1984-02-29 | 1984-02-29 | マグネトロンスパツタリング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60140761U (en]) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2617368B2 (ja) * | 1990-05-02 | 1997-06-04 | アネルバ株式会社 | スパッタリング装置 |
JP5968740B2 (ja) * | 2012-09-20 | 2016-08-10 | 株式会社アルバック | ターゲット装置、スパッタ装置、及び、ターゲット装置の製造方法 |
JP2014141720A (ja) * | 2013-01-25 | 2014-08-07 | Toray Ind Inc | Dcマグネトロン型反応性スパッタリング装置および方法 |
JP2019157144A (ja) * | 2018-03-07 | 2019-09-19 | シャープ株式会社 | 成膜装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5842270B2 (ja) * | 1980-06-19 | 1983-09-19 | 沖電気工業株式会社 | スパツタ蒸発源 |
-
1984
- 1984-02-29 JP JP2715784U patent/JPS60140761U/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS60140761U (ja) | 1985-09-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3535305B2 (ja) | プレーナー・マグネトロン・スパッタリングシステム | |
JPH0342035Y2 (en]) | ||
JP4233702B2 (ja) | カーボンスパッタ装置 | |
KR950000011B1 (ko) | 마그네트론 스패터링장치 및 박막형성방법 | |
JPH0525625A (ja) | マグネトロンスパツタカソード | |
JPS63282263A (ja) | マグネトロンスパッタリング装置 | |
JPS61204371A (ja) | 陰極スパツタリング用磁気回路装置 | |
JPH027870Y2 (en]) | ||
JPS5996266A (ja) | スパツタ装置 | |
JP2580149B2 (ja) | スパツタ装置 | |
JPH05339726A (ja) | マグネトロンスパッタ装置 | |
JPS5813622B2 (ja) | マグネトロン型スパッタ装置 | |
JP3883316B2 (ja) | スパッタリングターゲットおよびそのスパッタリング装置 | |
JP2912181B2 (ja) | スパッタリング装置 | |
JP2660716B2 (ja) | マグネトロン型スパッタ装置 | |
KR100205682B1 (ko) | 피복두께의 균일성, 스텝 커버리지 및 스텝 커버리지의 균일성을 만드는 평탄 마그네트론 스퍼터링 공급원 | |
JPS6277477A (ja) | 薄膜形成装置 | |
JP3099153B2 (ja) | 皮膜加工装置 | |
JPS5891168A (ja) | マグネトロン型スパッタ装置 | |
JPH0781184B2 (ja) | スパツタ装置 | |
JPS6152360A (ja) | スパツタ成膜装置 | |
JPS63290274A (ja) | 金属薄膜製造装置 | |
JP3116279B2 (ja) | マグネトロンカソードを用いた薄膜の形成方法 | |
JP2003277925A (ja) | スパッタリングターゲット | |
JPH06104897B2 (ja) | スパッタリング装置 |